厦门美日丰创光罩有限公司

The leader in Photomask Technology

厦门美日丰创光罩有限公司作为中国规模最大的集成电路商用光罩生产基地,除了不断完善产品线与优化服务,持续投入先进制程开发外,同时也对产能的拓展有长期且积极的投资计划,以期能对人类文明进步与半导体产业发展能尽一份绵薄之力。
厦门美日丰创光罩有限公司

The leader in Photomask Technology

厦门美日丰创光罩有限公司作为中国规模最大的集成电路商用光罩生产基地,除了不断完善产品线与优化服务,持续投入先进制程开发外,同时也对产能的拓展有长期且积极的投资计划,以期能对人类文明进步与半导体产业发展能尽一份绵薄之力。

PDMCX

领先全球技术 Photronics世界一流

50 多年来,我们一直在光罩制造和技术方面领先同俦,为客户提供最佳质量。我们的专业产品具世界一流的性能,同时持续拓展业务,以支持集成电路(IC)和平板显示器(FPD)的尖端技术。事实上,能同时服务于IC和FPD行业的商用光罩企业中,Photronics独树一帜。我们的全球影响力、产品范围和技术实力无与伦比。我们投资最先进的工具,并竭力与您合作,切实满足您所有的光罩需求。

領導團隊

Our team

Frank Lee, Ph.D.

CEO

 

David Wang

SVP, COO of Asia IC and US/EU Mainstream Operations

 

Eric Rivera

Chief Financial Officer

 

Christopher J. Progler, Ph.D.

Executive Vice President, Chief Technology Officer, Strategic Planning

 

Future

创造全新的 未来展望
共创双赢光明的未来

厦门美日丰创光罩有限公司乃延揽先进光罩研发及先进微影制程实作的一流人才及菁英团队所组成,除立即供应目前业界所需之成熟传统性光罩及高阶相位移光罩外,也依据客户更先进制程所需求的光罩推出开发方案,以增进公司之生产良率,提升产品竞争力。我们确信,未来在制程技术愈趋精密的情势下,也能提供客户所需要的优质光罩。

厦门美日丰创光罩有限公司

Leading-Edge Advanced Photomasks

厦门美日丰创光罩有限公司于2016年10月由美国丰创公司与大日本印刷公司在厦门火炬高新区合资成立,总投资10.67亿元,注册资本1.8亿美金,总建筑面积3.9万平方米。2019年3月竣工,7月起正式出货,2022年已达成项目预计产值目标,并启动扩产计划。

公司主要从事集成电路制程专用光罩的研发和生产,是厦门构建区域性集成电路制造产业链不可或缺的重要环节,对完善产业链布局,意义重大。

美国丰创公司成立于1969年,是全球电子产业光罩科技龙头企业,及光罩和刻线技术的全球领导者,目前在全球主要的半导体和平板显示器制造商周围设立了10个生产工厂。服务对象包括世界前五大晶圆代工公司,前十大IC 设计公司及前三大内存公司。

另一投资方大日本印刷公司是日本最大的印刷及媒介公司,建立于1876年,主要从事电子出版、商业印刷、包装服务、装修材料、半导体部材、太阳能电池、工业用品、显示原件、电子器件等业务,拥有员工约3.8万人,2021年度营业额约658亿人民币。

光罩,作为半导体上游设备材料的关键“罩门”,是决定芯片良率至关重要的工艺技术。

目前全球能生产光罩的先进厂商非常有限,厦门美日鉴于市场需求与配合中国国家集成电路发展政策,将现有集团高阶光罩制程工艺28/40/55奈米移转到大陆,并规划研发下一世代的光罩制程工艺,配合大陆集成电路发展战略中设计-芯片-光罩三块版块中的最后一块拼图的完成,推动中国集成电路产业供应链更加完备,并提升竞争力。

公司之经营目标如下:

一、 建立量产成熟及高阶光罩之能力,包括28奈米的先进技术。

二、 提升中国IC工业微影制程之技术层次。

三、 成为所有IC公司虚拟之光罩制作厂(virtual mask shop)。